KSM

Kalrez

Kalrez® 재질 특성

재질, 이미지, 색상, 경도 (Shore A), 지속적 사용가능 온도(℃), 영구압축 줄음률(70hr, 204℃, %), 100% 모듈러스(MPa), 파괴시 인장강도(MPa), 파괴시 신장률(%)
재질	이미지	색상	경도 (Shore A)	지속적 사용 가능 온도(℃)	영구압축 줄음률 (70hr, 204℃, %)	100% 모듈러스(MPa)	파괴시 인장강도(MPa)	파괴시 신장률(%)
9600		황록색	70	315	15	4.76	13.43	218
9500		황갈색	75	310	20	9.50	17.5	205
9300		갈색	74	300	20	6.66	16.57	215
9100		호박색	68	300	18	4.76	13.78	233
6005		반투명 흰색	69	275	15	2.40	14.2	255
8002		투명	69	275	15	2.88	15.95	246
8085		베이지	80	240	42	7.50	16.3	159
8900		검정	73	325	9	12.21	20.75	137
7075		검정	75	327	12	7.58	17.91	160
8475		흰색	60	300	23	2.20	11.35	225
8575		흰색	62	300	29	2.47	12.04	230
6375		검정	75	275	25	7.23	15.16	160
4079		검정	75	316	25	7.23	16.88	150

리스트 보기

공정별 추천 재질

Plasma Process

각 공정별로 굵은 글씨의 재질을 추천 드립니다.

공정, Seal 온도, 공정 환경, 추천 재질, 적용 부위
공정	Seal 온도	공정 환경	추천 재질	적용 부위
PE-CVD ALD	25-200°C	TMS, DEMS, TEOS, SiH4, C3H6, NH3, SiF4, O2, N2O, NF3	9600 9100 9500	구동부 - Door seal - Gate valve - Pendulum valve 고정부 - Chamber lid seal - Exhaust valve - Gas inlets / outlet - Window seal - Center ring 운반부 - End effecter pad - Transport roller
HDP-CVD	25-200°C	TEOS, SiH4, NH3, SiF4, O2, C2F6, N2O, NF3, CF4,	9100 9500
SA-CVD	25-200°C	TEB, TEPO, TEOS, O3, NF3	9500 8085
Ashing / Stripping	25-200°C	O2, CF4, CHF3, NH3, H2O Vapor, Forming Gas	9500 9300 6005
Dielectric Etch	25-200°C	CF4, C3F8, CHF3, SF6, O2, H2	9300 9500 6005
Conductor Etch	25-200°C	CF4, CHF3, HBr, BCl3, CCl4, Cl2	9500 9300 9100 6005

리스트 보기

Thermal Process

각 공정별로 굵은 글씨의 재질을 추천 드립니다.

공정, Seal 온도, 공정 환경, 추천 재질, 적용 부위
공정	Seal 온도	공정 환경	추천 재질	적용 부위
Metal-CVD ALD LP-CVD	25-300°C	Organic Precursors, WF6, TiCl4, SiH4, HF, F2, Cl2, ClF3, NF3, H2O Vapor, O2, O3	8900 9100 7075	- Quartz chamber seal - Fitting - Center ring - Plenum seal
Oxidation Diffusion	150-300°C	N2, O2, H2O, HCl, Cl2	8900 7075 8475
Lamp Anneal RTP	150-300°C	Resistance to IR absorption	8475

리스트 보기

Wet Process

각 공정별로 굵은 글씨의 재질을 추천 드립니다.

공정, Seal 온도, 공정 환경, 추천 재질, 적용 부위
공정	Seal 온도	공정 환경	추천 재질	적용 부위
Wafer Prep	25-125°C	UPDI, Piranha, SC-1, SC-2, O3, HF(49%)	6375 4079	- Door / Lid seal - Drain seal - Seal for chemical container - Fitting - Seal for filter / connector - Flow meter
Etching	25-180°C	HNO3, HF, H2O, H3PO4, HNO3,
Photolithography	25-125°C	H2SO4 + Oxidant Organic Acids, nMP
Stripping	25-125°C	nMP / Alkanolamine Hydroxlamine	6375
Copper Plating	25-100°C	CuSO4 Solution H2SO4, H2O2	6375

리스트 보기