KSM

Heater

什么是加热器？

• 加热器用于半导体CVD, Etch等工艺，是半导体设备的核心部件 。
• 加热器直接与硅片接触，其核心技术是以最小的温度偏差把整片硅片均匀地加热。

• 世界顶尖技术∙诀窍
• 独创的精密制造工艺
• 迅速的服务∙响应

• CVD

  • CVD 1
  • CVD 2
  • CVD 3
  • CVD 4
  • CVD 5

  CVD 1

  

  CVD 1

  询价询价

  材质	Aluminum AI 3003
  使用工艺	CVD - Semi
  工作温度	400 °C
  均匀性	±1%
  备注	Tig Welding. Bead Blasting. Vaccum Chuck. Spring Groove. AI Heating Element

  CVD 2

  

  CVD 2

  询价询价

  材质	Aluminum Al 3003-H112
  使用工艺	CVD - Semi
  工作温度	400 °C
  均匀性	±1.0%
  备注	Brazing type. Seasoning. Grain Growth. Sapphire Ball. Al Heat Element

  CVD 3

  

  CVD 3

  询价询价

  材质	Aluminum Al 6061
  使用工艺	CVD - Semi
  工作温度	120°C
  均匀性	±1%
  备注	Brazing type. Low Watt Heat Element. Cooling channel

  CVD 4

  

  CVD 4

  询价询价

  材质	Aluminum Al 6061
  使用工艺	CVD - Semi
  工作温度	120°C
  均匀性	±0.5%
  备注	E-Beam Welding, Dual Zone, O-ring Sealing. Cooling.

  CVD 5

  

  CVD 5

  询价询价

  材质	Aluminum Al 600
  使用工艺	PECVD-Semi
  工作温度	350°C
  加热器尺寸	40.89” * 40.89”
  备注	Bare

• PVD

  • PVD 1
  • PVD 2

  PVD 1

  

  PVD 1

  询价询价

  材质	SST
  使用工艺	PVD-Semi
  工作温度	350°C
  加热器尺寸	12”
  备注	Bare

  PVD 2

  

  PVD 2

  询价询价

  材质	SST
  使用工艺	PVD-Semi
  工作温度	250°C
  加热器尺寸	12”
  备注	Bare

• Ashing

  • Ashing 1
  • Ashing 2
  • Ashing 3

  Ashing 1

  

  Ashing 1

  询价询价

  材质	Aluminum A356
  使用工艺	Ashing-Semi
  工作温度	250°C
  加热器尺寸	12”
  均匀性	±2°C
  备注	Casting type. Wafer loading at ATM. Hard Anodizing.

  Ashing 2

  

  Ashing 2

  询价询价

  材质	Al6061-T6
  使用工艺	Ashing-Semi
  工作温度	400°C
  硅片尺寸	18”
  备注	Hard Anodizing

  Ashing 3

  

  Ashing 3

  询价询价

  材质	Al1100
  使用工艺	Ashing-Semi
  工作温度	350°C
  加热器尺寸	12”
  备注	Bare

• Etching

  • Etching 1
  • Etching 2
  • Etching 3

  Etching 1

  

  Etching 1

  询价询价

  材质	Aluminum Al 6061-T6
  使用工艺	Etching
  工作温度	260°C
  硅片尺寸	12”
  备注	Hard Anodizing, Teflon Coating

  Etching 2

  

  Etching 2

  询价询价

  材质	Aluminum Al 6061-T6
  使用工艺	Etching
  工作温度	260°C
  硅片尺寸	12”
  备注	Bare

  Etching 3

  

  Etching 3

  询价询价

  材质	Aluminum Al 6061-T6
  使用工艺	Etching
  工作温度	260°C
  备注	Kapton Heater, Hard Anodizing, Ni Plating, Wye connection(3-Ph)