home 产品介绍 企业概况 产品介绍 客服专区 Heater Heater 产品介绍 产品介绍 技术力量 联系方式 Heater Heater Heater 产品介绍 技术力量 联系方式 什么是加热器？ 加热器用于半导体CVD, Etch等工艺，是半导体设备的核心部件 。 加热器直接与硅片接触，其核心技术是以最小的温度偏差把整片硅片均匀地加热。 世界顶尖技术∙诀窍 独创的精密制造工艺 迅速的服务∙响应 CVD CVD 1 CVD 2 CVD 3 CVD 1 CVD 1 询价询价 材质 Aluminum Al 6061 使用工艺 CVD - Semi 工作温度 120°C 均匀性 ±1% 备注 Brazing type. Low Watt Heat Element. Cooling channel CVD 2 CVD 2 询价询价 材质 Aluminum Al 6061 使用工艺 CVD - Semi 工作温度 120°C 均匀性 ±0.5% 备注 E-Beam Welding, Dual Zone, O-ring Sealing. Cooling. CVD 3 CVD 3 询价询价 材质 Aluminum Al 600 使用工艺 PECVD-Semi 工作温度 350°C 加热器尺寸 40.89” * 40.89” 备注 Bare PVD PVD 1 PVD 2 PVD 1 PVD 1 询价询价 材质 SST 使用工艺 PVD-Semi 工作温度 350°C 加热器尺寸 12” 备注 Bare PVD 2 PVD 2 询价询价 材质 SST 使用工艺 PVD-Semi 工作温度 250°C 加热器尺寸 12” 备注 Bare Ashing Ashing 1 Ashing 2 Ashing 3 Ashing 1 Ashing 1 询价询价 材质 Aluminum A356 使用工艺 Ashing-Semi 工作温度 250°C 加热器尺寸 12” 均匀性 ±2°C 备注 Casting type. Wafer loading at ATM. Hard Anodizing. Ashing 2 Ashing 2 询价询价 材质 Al6061-T6 使用工艺 Ashing-Semi 工作温度 400°C 硅片尺寸 18” 备注 Hard Anodizing Ashing 3 Ashing 3 询价询价 材质 Al1100 使用工艺 Ashing-Semi 工作温度 350°C 加热器尺寸 12” 备注 Bare Etching Etching 1 Etching 2 Etching 1 Etching 1 询价询价 材质 Aluminum Al 6061-T6 使用工艺 Etching 工作温度 260°C 硅片尺寸 12” 备注 Hard Anodizing, Teflon Coating Etching 2 Etching 2 询价询价 材质 Aluminum Al 6061-T6 使用工艺 Etching 工作温度 260°C 硅片尺寸 12” 备注 Bare
