Heater

什么是加热器?
- 加热器用于半导体CVD, Etch等工艺,是半导体设备的核心部件 。
- 加热器直接与硅片接触,其核心技术是以最小的温度偏差把整片硅片均匀地加热。
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CVD
- CVD 1
- CVD 2
- CVD 3
- CVD 4
- CVD 5
CVD 1
CVD 1
询价询价材质 Aluminum AI 3003 使用工艺 CVD - Semi 工作温度 400 °C 均匀性 ±1% 备注 Tig Welding. Bead Blasting. Vaccum Chuck. Spring Groove. AI Heating Element CVD 2
CVD 2
询价询价材质 Aluminum Al 3003-H112 使用工艺 CVD - Semi 工作温度 400 °C 均匀性 ±1.0% 备注 Brazing type. Seasoning. Grain Growth. Sapphire Ball. Al Heat Element CVD 3
CVD 3
询价询价材质 Aluminum Al 6061 使用工艺 CVD - Semi 工作温度 120°C 均匀性 ±1% 备注 Brazing type. Low Watt Heat Element. Cooling channel -
PVD
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Ashing
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Etching